发明名称 | 发光二极管与成长基板分离的方法 | ||
摘要 | 种发光二极管与成长基板分离的方法,首先提供一成长基板,该成长基板具有一连接面及一远离该连接面的底面;接着于该连接面上形成多个孔洞;再于该连接面上成长一发光二极管结构,并于该发光二极管结构形成一与该连接面连接的连接部;而后研磨该底面,使该底面内缩与该孔洞连通;最后将一蚀刻液由该孔洞导入该连接部以进行蚀刻,分离该发光二极管结构及该成长基板。据此,本发明利用该孔洞的形成,以研磨及蚀刻的方式分离该发光二极管结构及该成长基板,而具有高工艺良率及降低制造成本的优点。 | ||
申请公布号 | CN103633194A | 申请公布日期 | 2014.03.12 |
申请号 | CN201210301116.X | 申请日期 | 2012.08.22 |
申请人 | 联胜光电股份有限公司 | 发明人 | 颜伟昱;陈复邦;张智松 |
分类号 | H01L33/00(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 梁挥;常大军 |
主权项 | 一种发光二极管与成长基板分离的方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤S1:提供一成长基板,该成长基板具有一连接面及一远离该连接面的底面;步骤S2:于该连接面上形成多个孔洞;步骤S3:于该连接面上成长一发光二极管结构,并于该发光二极管结构形成一与该连接面连接的连接部;步骤S4:研磨该底面,使该底面内缩与该孔洞连通;以及步骤S5:将一蚀刻液由该孔洞导入该连接部以进行蚀刻,分离该发光二极管结构及该成长基板。 | ||
地址 | 中国台湾台中市西屯区科园三路8号 |