发明名称 发光二极管与成长基板分离的方法
摘要 种发光二极管与成长基板分离的方法,首先提供一成长基板,该成长基板具有一连接面及一远离该连接面的底面;接着于该连接面上形成多个孔洞;再于该连接面上成长一发光二极管结构,并于该发光二极管结构形成一与该连接面连接的连接部;而后研磨该底面,使该底面内缩与该孔洞连通;最后将一蚀刻液由该孔洞导入该连接部以进行蚀刻,分离该发光二极管结构及该成长基板。据此,本发明利用该孔洞的形成,以研磨及蚀刻的方式分离该发光二极管结构及该成长基板,而具有高工艺良率及降低制造成本的优点。
申请公布号 CN103633194A 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN201210301116.X 申请日期 2012.08.22
申请人 联胜光电股份有限公司 发明人 颜伟昱;陈复邦;张智松
分类号 H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;常大军
主权项 一种发光二极管与成长基板分离的方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤S1:提供一成长基板,该成长基板具有一连接面及一远离该连接面的底面;步骤S2:于该连接面上形成多个孔洞;步骤S3:于该连接面上成长一发光二极管结构,并于该发光二极管结构形成一与该连接面连接的连接部;步骤S4:研磨该底面,使该底面内缩与该孔洞连通;以及步骤S5:将一蚀刻液由该孔洞导入该连接部以进行蚀刻,分离该发光二极管结构及该成长基板。
地址 中国台湾台中市西屯区科园三路8号