发明名称 |
半导体元件及其制作方法与图像感测元件 |
摘要 |
发明提供一种半导体元件及其制作方法与图像感测元件。图像感测元件包括:一像素,位于一基板中;一第一微透镜,内埋于位于基板上的一膜层中,第一微透镜的一第一上表面具有一角状的顶端;一彩色滤光片,位于膜层上;以及一第二微透镜,位于彩色滤光片上,第二微透镜的一第二上表面具有一接近圆形的轮廓;其中像素、第一微透镜、彩色滤光片、以及第二微透镜皆至少部分彼此对齐。本发明的半导体元件的制作工艺相当快速且便宜,而且光聚焦性能较佳。 |
申请公布号 |
CN102446930B |
申请公布日期 |
2014.03.12 |
申请号 |
CN201110054069.9 |
申请日期 |
2011.03.04 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
周世培;刘世昌;杜友伦;蔡嘉雄 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I;H01L27/148(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
张浴月;刘文意 |
主权项 |
一种半导体元件,包括:一辐射感测单元,形成于一基板中;一透明膜层,形成于该基板上;以及一微透镜,由介电层通过退火工艺由固态转变成液态再经历一再成形工艺而形成,内埋于该透明膜层中,其中该微透镜具有一弧形上表面,且该弧形上表面具有一尖顶端部。 |
地址 |
中国台湾新竹 |