发明名称 基板处理装置及方法、基板把持机构以及基板把持方法
摘要 种基板处理装置、基板处理方法、基板把持机构以及基板把持方法。具备:对基板(W)进行研磨的研磨部(3);搬运基板(W)的搬运机构(5、6);以及对研磨后的基板(W)进行清洗、干燥的清洗部(4)。清洗部(4)具有用于清洗多个基板的多个清洗线。该清洗线具备多个清洗模块(201A、201B、202A、202B),通过多个搬运机器人(209、210)来搬运基板。
申请公布号 CN101599423B 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN200910141394.1 申请日期 2009.06.04
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 宫崎充;胜冈诚司;松田尚起;国泽淳次;小林贤一;外崎宏;筱崎弘行;锅谷治;森泽伸哉;小川贵弘;牧野夏木
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B05B3/12(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 许玉顺;胡建新
主权项 一种基板处理装置,其特征在于,具有:研磨部,用于研磨基板;搬运机构,用于搬运基板;以及清洗部,对研磨后的基板进行清洗、干燥,所述清洗部具有用于清洗多个基板的多个清洗线、以及将基板分配给所述多个清洗线中的某个清洗线的第1搬运机器人及第2搬运机器人,所述多个清洗线具有:对基板进行初次清洗的多个初次清洗模块;以及对基板进行二次清洗的多个二次清洗模块,所述初次清洗模块及所述二次清洗模块分别沿纵方向排列,所述第1搬运机器人能够沿着在纵方向上延伸的第1支撑轴上下移动而访问所述多个初次清洗模块及所述多个二次清洗模块,所述第2搬运机器人能够沿着在纵方向上延伸的第2支撑轴上下移动而访问所述多个二次清洗模块,所述基板处理装置具有:检测器,检测所述初次清洗模块及所述二次清洗模块的故障;和控制部,在所述检测器检测到所述初次清洗模块及所述二次清洗模块中的任一个的故障时,选定避开该故障的清洗模块的清洗线,并切换至该选定的清洗线。
地址 日本东京都