发明名称 一种Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>/ZnO/HfO<sub>2</sub>非对称双异质结发光二极管及其制备方法
摘要 发明公开了一种Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管及其制备方法。该发光二极管在衬底自下而上依次为HfO2电子阻挡层、本征ZnO有源层、Ta2O5空穴阻挡层和第一电极,第二电极和HfO2电子阻挡层并列沉积在衬底上。采用Ta2O5作为空穴阻挡层,与HfO2电子阻挡层配合作用将载流子限制在ZnO有源层中,能有效地抑制p-GaN衬底侧的发光、提高ZnO有源层的发光强度。Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管发光峰值波长在680nm附近,半高宽约为150nm。制备工艺简单、成本低廉,易于实现产业化。
申请公布号 CN103633204A 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN201310640099.7 申请日期 2013.12.04
申请人 武汉大学 发明人 方国家;王皓宁;龙浩;李颂战;莫小明;陈昭
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/26(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人 汪俊锋
主权项 一种Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管,包括衬底,在衬底自下而上依次有HfO2电子阻挡层(3),本征ZnO有源层(4),Ta2O5空穴阻挡层(5),n型ZnO掺Al薄膜层(6)和第一电极(7),第二电极(8)与HfO2电子阻挡层并列沉积在衬底上。
地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
您可能感兴趣的专利