发明名称 |
用于将材料薄膜沉积在衬底上的设备和方法 |
摘要 |
发明涉及用于将材料薄膜沉积在衬底上的设备和方法。所述设备包括:多个喷嘴,其与载气和待沉积的材料流体连通;以及平移机构,其经配置以在沉积过程期间,使所述衬底和所述多个喷嘴中的至少一者相对于彼此移动,其中所述喷嘴中的至少两者包含不同几何形状。喷嘴群组中沉积元件的所述喷嘴中的至少一者可经配置以用小于所述元件的宽度的宽度将所述材料沉积在所述衬底上。 |
申请公布号 |
CN103633258A |
申请公布日期 |
2014.03.12 |
申请号 |
CN201310379261.4 |
申请日期 |
2013.08.27 |
申请人 |
环球展览公司 |
发明人 |
西达尔塔·哈里克思希纳·莫汉;保罗·E·伯罗斯 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;B05B13/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
王璐 |
主权项 |
一种将薄膜沉积在衬底上的方法,其包括:在使多个喷嘴或衬底相对于彼此移动的同时,从所述喷嘴喷射载气和材料,其中将所述材料从所述喷嘴中的至少两者沉积在所述衬底上,所述喷嘴中的所述至少两者包含不同几何形状。 |
地址 |
美国新泽西州 |