| 发明名称 | 制备稳定透明电极的方法 | ||
| 摘要 | 发明涉及一种制造稳定超薄金属膜的方法，该方法包括以下步骤：a)在诸如镍、铬、铝、钛的衬底上沉积超薄金属膜；b)热处理所述超薄金属膜，可选择地结合02处理；以及c)在所述超薄金属膜的顶部获得保护氧化物层。 | ||
| 申请公布号 | CN102105989B | 申请公布日期 | 2014.03.12 |
| 申请号 | CN200980128591.8 | 申请日期 | 2009.06.10 |
| 申请人 | 光通讯研究所，私人基金会;卡塔兰研究和高级研究院 | 发明人 | 瓦莱里奥·普鲁内里;路易斯·马丁内斯蒙塔布兰奇;斯特凡诺·朱格拉;保罗·维尔加尼 |
| 分类号 | H01L31/0224(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0224(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 顾晋伟 |
| 主权项 | 一种制造稳定的透明电极的方法，包括以下步骤：a)在衬底上直接沉积超薄金属膜；b)在每分钟10标准立方厘米至30标准立方厘米的连续氧气流的存在下热处理所述超薄金属膜，所述氧气流是在50℃至120℃的温度下具有100eV至200eV范围内的动能的未电离O2；以及c)由此在所述超薄金属膜的顶部获得保护氧化层。 | ||
| 地址 | 西班牙巴塞罗那 | ||