发明名称 在刻印光刻技术中减少突出物
摘要 于能量源与刻印光刻模板之间的器件可以阻挡能量暴露于基板上所分配的可聚合的材料的多个部分。被阻挡从而不能暴露于上述能量的可聚合的材料的多个部分可以仍然是流体,而使其余的可聚合的材料固化。
申请公布号 CN101939704B 申请公布日期 2014.03.12
申请号 CN200980104592.9 申请日期 2009.02.09
申请人 分子制模股份有限公司 发明人 N·胡斯努季诺夫;C·E·琼斯;J·G·佩雷斯;D·L·拉布拉克;I·M·麦克麦基
分类号 G03C5/00(2006.01)I 主分类号 G03C5/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 李玲
主权项 一种用于刻印光刻的方法,包括:使第一迷宫图案在刻印光刻模板的台面的边界上图案化,所述台面包括在所述边界以内的期望刻印区域;在基板上分配可聚合的材料;以及使刻印光刻模板的台面与基板相接触,其中所述第一迷宫图案减少所述可聚合的材料扩散到所述台面的边界外。
地址 美国得克萨斯州