| 发明名称 | 电容式感测结构 | ||
| 摘要 | 发明公开了一种电容式感测结构，其包括基材、感测电极层、至少一个堆叠层及导电体。该感测电极层形成于该基材之上或该基材内；该堆叠层形成于该感测电极层之上；该导电体对应设置于该感测电极层及该堆叠层之上。 | ||
| 申请公布号 | CN101209812B | 申请公布日期 | 2014.03.12 |
| 申请号 | CN200610171272.3 | 申请日期 | 2006.12.28 |
| 申请人 | 台达电子工业股份有限公司 | 发明人 | 王宏洲;谢协伸;梁朝睿;李政璋;王朝庆;袁宗廷;陈煌坤;邢泰刚 |
| 分类号 | H01L49/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L49/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 一种电容式感测结构，包括：基材；感测电极层，形成于该基材之上或该基材内；至少一个堆叠层，形成于该感测电极层之上；以及导电体，对应设置于该感测电极层及该堆叠层之上，其中该感测电极层与该堆叠层具有不同的高度，且该堆叠层为互补式金属氧化物半导体层、驱动电极层或挡止元件。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||