发明名称 |
无水胶印版再生的制备方法 |
摘要 |
发明属于印刷版材领域,具体涉及无水胶印版再生的制备方法,更具体涉及将已曝光显影并上机印刷使用完毕的无水胶印版再生的制备方法。将已经使用完毕的无水胶印版浸泡于极性有机溶剂中并振荡,然后取出无水胶印版,再经刷洗去掉无水胶印版上的硅胶层、感光层和底涂层得到无水胶印版基,无水胶印版基经展平后得到无水胶印再生版基;所得无水胶印再生版基再次涂布现有工艺的底涂层、感光层、硅胶层和覆盖保护层,得到无水胶印再生版。使用所得无水胶印再生版时,可用传统制版技术进行曝光显影成像,也可用计算机直接制版技术成像,上机印刷。无水胶印版的回收利用有效地节约了成本、材料和能源。 |
申请公布号 |
CN102241209B |
申请公布日期 |
2014.03.12 |
申请号 |
CN201010174582.7 |
申请日期 |
2010.05.11 |
申请人 |
中国科学院化学研究所 |
发明人 |
周海华;宋延林 |
分类号 |
B41N1/00(2006.01)I;B41N3/00(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
B41N1/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
李柏 |
主权项 |
一种无水胶印版再生的制备方法,其特征是:将已经使用完毕的无水胶印版浸泡于极性有机溶剂中并振荡,然后取出无水胶印版,再经刷洗去掉无水胶印版上的硅胶层、感光层和底涂层得到无水胶印版基,无水胶印版基经展平后得到无水胶印再生版基;所得无水胶印再生版基再次涂布底涂层、感光层、硅胶层和覆盖保护层,得到无水胶印再生版;所述的极性有机溶剂选自醇、酮、醚、芳香烃所组成的组中的至少一种。 |
地址 |
100190 北京市海淀区中关村北一街2号 |