使半导体基底的氧化表面活化的溶液和方法

摘要

发明涉及一种使基底的氧化表面活化的溶液和方法，尤其是半导体基底，从而随后利用通过无电方法沉积的金属层覆盖所述表面。根据本发明的组合物含有：A)由一种或多种钯配合物形成的活化剂；B)由一种或多种有机硅烷化合物形成的双官能的有机粘结剂；C)由适于溶解所述活化剂和所述粘结剂的一种或多种溶剂形成的溶剂体系。应用：制作电子器件，例如特别是集成电路，尤其是三维集成电路。

主权项

1.一种使基底的氧化表面活化的溶液，从而随后利用通过无电方法沉积的金属层覆盖所述表面，其特征在于，所述溶液含有：A)由一种或多种钯配合物形成的活化剂，所述钯配合物选自：·式(I)的钯配合物其中：-R1和R2相同并且是-H、-CH₂CH₂NH₂、-CH₂CH₂OH；或R1是-H且R2是-CH₂CH₂NH₂；或R1是-CH₂CH₂NH₂且R2是-CH₂CH₂NHCH₂CH₂NH₂；或R1是-H且R2是-CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NH₂；-X是选自Cl^-、Br^-、I^-、H₂O、NO₃^-、CH₃SO₃^-、CF₃SO₃^-、CH₃-Ph-SO₃^-、CH₃COO^-的配体；·式(IIa)或式(IIb)的钯配合物其中：-R1和R2是按上述定义的，和-Y是带有两个负电荷的抗衡离子，所述抗衡离子：-或者由两个一价阴离子形成；-或者由二价阴离子形成；B)由一种或多种有机硅烷化合物形成的双官能的有机粘结剂，所述有机硅烷化合物具有-通式：{X-(L)}_4-n-Si(OR)_n   (Va)其中：-X是选自以下的官能团：硫醇、吡啶基、环氧基、缩水甘油基、伯胺、氯，并且能够与式(I)的钯化合物反应；-L是选自以下的间隔基：CH₂、CH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂CH₂、CH₂CH₂NHCH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂、Ph、Ph-CH₂、CH₂CH₂-Ph-CH₂；-R是选自以下的基团：CH₃-、CH₃CH₂-、CH₃CH₂CH₂-、(CH₃)₂CH-；和-n是等于1、2或3的整数；-或通式：(OR)₃Si-(L)-Si(OR)₃   (Vb)其中：-L是选自以下的间隔基：CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂CH₂和CH₂CH₂CH₂-S-S-CH₂CH₂CH₂；-R是选自以下的基团：CH₃-、CH₃CH₂-、CH₃CH₂CH₂-、(CH₃)₂CH-；C)由适于溶解所述活化剂和所述粘结剂的一种或多种溶剂形成的溶剂体系。