一种空间成像套刻检验方法及阵列基板

摘要

发明公开了一种空间成像套刻检验方法及阵列基板，该方法包括：光刻形成一层具有空间成像套刻标记的薄膜；在所述薄膜为透明薄膜时，对所述透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理，使所述空间成像套刻标记显示出非透明色；利用所述非透明色的空间成像套刻标记，进行所述透明薄膜与相邻的薄膜之间的空间成像套刻检验。本发明通过对透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理后再进行定位，可以快速准确的定位空间成像套刻标记，从而可以快速有效地检测出两道光刻工序间的对准状况。

主权项

一种空间成像套刻检验方法，其特征在于，包括：光刻形成一层具有空间成像套刻标记的薄膜；在所述薄膜为透明薄膜时，在经过真空处理后的环境中向所述透明薄膜上的空间成像套刻标记所在的区域喷射气体，所述气体能够与所述空间成像套刻标记发生雾化反应，使所述发生雾化反应后的空间成像套刻标记显示出非透明色；所述气体为氨气NH3气体和硅烷SiH4气体；所述透明薄膜为铟锡氧化物ITO透明薄膜，所述ITO透明薄膜是通过光刻工艺形成，所述空间成像套刻标记位于所述ITO透明薄膜的非显示区域；利用所述非透明色的空间成像套刻标记，进行所述透明薄膜与相邻的薄膜之间的空间成像套刻检验。