首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 形成保护膜于微型摄像晶片上之装置及其形成方法
摘要
申请公布号 TWI430343 申请公布日期 2014.03.11
申请号 TW099102153 申请日期 2010.01.26
申请人 豪威科技股份有限公司 美国 发明人 谢宜璋;林蔚峰;何文仁;李基魁;高钲翔
分类号 H01L21/30;H01L21/67 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 江国庆 台北市松山区光复北路11巷46号11楼
主权项
地址 美国
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com