发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI430050 申请公布日期 2014.03.11
申请号 TW100102145 申请日期 2011.01.20
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 迪瑞克 丹尼尔 约瑟夫 马利亚;优莫林 艾瑞克 亨瑞库司 艾居迪司 卡萨瑞纳;凡 德 唐真 赛曼斯 裘汉纳斯 葛瑞德斯;史屈普斯 梅克尔 阿德里阿奴斯 克尔内里斯;苏雷波夫 塞尔杰;穆德 派得;贝瑟斯 大卫;巴瑞格纳 马可
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰