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经营范围
发明名称
微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号
TWI430050
申请公布日期
2014.03.11
申请号
TW100102145
申请日期
2011.01.20
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
迪瑞克 丹尼尔 约瑟夫 马利亚;优莫林 艾瑞克 亨瑞库司 艾居迪司 卡萨瑞纳;凡 德 唐真 赛曼斯 裘汉纳斯 葛瑞德斯;史屈普斯 梅克尔 阿德里阿奴斯 克尔内里斯;苏雷波夫 塞尔杰;穆德 派得;贝瑟斯 大卫;巴瑞格纳 马可
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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