Verfahren zur Herstellung einer Schicht auf einem Oberflächenbereich eines elektronischen Bauelements

摘要

Ein Verfahren zur Herstellung zumindest einer Schicht (1) auf einem Oberflächenbereich (2) eines optoelektronischen Bauelements (100, 101, 102, 103, 104, 105), das eine funktionelle Schichtenfolge (41) mit einem aktiven Bereich aufweist, der geeignet ist, im Betrieb des optoelektronischen Bauelements Licht zu erzeugen oder zu detektieren, weist die Schritte auf:–Bereitstellen des Oberflächenbereichs (2) in einer Beschichtungskammer (10),–Aufbringen der zumindest einen Schicht (1) mittels eines Lichtblitz unterstützten Atomlagenabscheideverfahrens, bei dem der Oberflächenbereich (2) zumindest einem gasförmigen ersten Ausgangsmaterial (21) für die zumindest eine Schicht (1) ausgesetzt wird und mit zumindest einem Lichtblitz bestrahlt wird.