发明名称 一种用于大型非平整表面沉积的装置及方法
摘要 本发明公开了一种原子层沉积装置,包括原子层沉积单元喷头,所述单元喷头包括高压气流入口,惰性隔离气体入口通道,出气口通道,和两种前驱体入口通道,其中所述高压气流入口喷出高压气体以顶起整个沉积装置,该装置是微型开放式且可移动可扩展,能够适用于大型非平整结构表面薄膜沉积,并可直接经过简单多块组合,增加沉积效率。
申请公布号 CN103614705A 申请公布日期 2014.03.05
申请号 CN201310583654.7 申请日期 2013.11.19
申请人 华中科技大学 发明人 陈蓉;邓章;段晨龙;单斌;文艳伟
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 朱仁玲
主权项 一种微型开放式可扩展原子层沉积装置,包括原子层沉积单元喷头(101),所述单元喷头包括高压气流入口(201),惰性隔离气体入口通道(206),出气口通道(203,205),两种前驱体入口通道(202,204),其中所述高压气流入口喷出高压气体以顶起整个沉积装置;其中,所述一种前驱体入口通道(202)为两个,位于一个另一种前驱体入口通道(204)的两侧,从而形成三个子沉积区F3;所述高压气流入口(201)由一组节流小孔组成,从而形成高压悬浮支撑区F1;所述三个沉积区F3各个区域中间分别由惰性隔离气体入口通道(206)喷出的惰性气体形成的隔离区F2隔离,所述悬浮支撑区、隔离区、沉积区三部分的气流通量与流速大小关系为F1>F2>F3。
地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号