发明名称 旱地玉米浅旋覆盖微垄沟种植方法
摘要 本发明涉及农业种植领域,具体为一种旱地玉米浅旋覆盖微垄沟种植方法,解决了现有玉米播种采用保护性耕作存在出苗不全导致秸秆还田率下降的问题。旱地玉米浅旋覆盖微垄沟种植方法,采用如下步骤:a、秋季将秸秆粉碎至长度小于10cm后覆盖于地表,每两年进行一次深松,深松深度为30-40cm,然后进行旋耕,深度为5cm,使粉碎秸秆与表土混合;b、春季开沟时将秸秆排到垄沟的两侧,压实播种垄沟两侧垄台土壤,垄沟深度为5-15cm,种子播于垄沟湿土部分;同时进行苗前除草剂喷施。本发明明显地改善了土壤的蓄水能力,而且有利于种子吸收土壤水分,提高出苗成活率,具有科学合理、操作简便的优点,作物单位产量得到了有效地提高。
申请公布号 CN103609305A 申请公布日期 2014.03.05
申请号 CN201310604049.3 申请日期 2013.11.26
申请人 山西省农业科学院作物科学研究所 发明人 冯瑞云;王慧杰;李广信;阎贵云;陈稳良;杨光宗;梁素明;石红卫
分类号 A01G1/00(2006.01)I;A01B79/00(2006.01)I 主分类号 A01G1/00(2006.01)I
代理机构 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 代理人 朱源
主权项 一种旱地玉米浅旋覆盖微垄沟种植方法,其特征在于:采用如下步骤:a、秋季将秸秆粉碎至长度小于10cm后覆盖于地表,每两年进行一次深松,深松深度为30‑40cm,然后进行旋耕,深度为5cm,使粉碎秸秆与表土混合;b、春季开沟时将秸秆排到垄沟的两侧,压实播种垄沟两侧垄台土壤,垄沟深度为5‑15cm,种子播于垄沟湿土部分;同时进行苗前除草剂喷施。
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