发明名称 一种直接还原过程中脱砷的方法
摘要 本发明公开了一种直接还原过程中脱砷的方法,该方法包括将含砷物料研磨后加入还原剂以及粘结剂混匀、造球,将造好的球团进行烘干处理,并置于还原炉内,通过控制反应温度及炉内气氛,进行直接还原反应,脱砷的同时有价金属也被直接还原。此种方法能够同时实现脱砷及有价金属的还原处理。
申请公布号 CN103614554A 申请公布日期 2014.03.05
申请号 CN201310559775.8 申请日期 2013.11.12
申请人 钢铁研究总院 发明人 居殿春;刘家琪;卢军辉;吴战芳
分类号 C22B5/10(2006.01)I;C22B30/04(2006.01)I 主分类号 C22B5/10(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 王兆赓;戴嵩玮
主权项 一种直接还原过程中脱砷的方法,所述方法包括以下步骤:(1)造球:对含砷物料进行研磨,加入还原剂以及粘结剂混匀、造球;(2)烘干:对造球步骤所得的球团进行烘干处理;(3)直接还原:将造球步骤所得的球团置于还原炉内加热至950℃‑1250℃,保温0.5小时‑6小时,控制炉内气氛,进行直接还原反应;其中,造球步骤中所得球团直径为1cm‑2cm。
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