投射设备

摘要

一种用于使光刻结构信息成像的投射设备(1)，包含：光学元件(2)，其至少部分具有由导电层材料构成的涂层(14)。涂层(14)包含连续区域(100)，该连续区域不具有遮挡投射光的元件。在该情况下，取决于温度变化，层材料和/或光学元件(2)改变光学特性，尤其是折射率或光学路径长度。提供至少一个单元(3)，用于将能量耦合进层材料中，该至少一个单元耦合能量使得层材料将耦合的能量转变为热能。层材料可包含石墨烯、铬和硫化钼(MoS2)。

主权项

一种用于使光刻结构信息成像的投射设备(1)，包含：光学元件(2)，至少部分具有由导电层材料构成的涂层(14)，其中，所述涂层(14)包含连续区域(100)，该连续区域不具有遮挡投射光的元件，并且取决于温度变化，所述层材料和/或所述光学元件(2)改变光学特性，尤其是折射率或光学路径长度；以及至少一个单元(3)，用于将能量耦合进所述层材料中，使得所述层材料将耦合的能量转变为热能，其中，所述层材料从由石墨烯、铬和硫化钼(MoS2)构成的组中选择。