| 发明名称 | 薄膜气体分离膜 | ||
| 摘要 | 气体分离膜，包括芳族聚酰亚胺聚合物，该芳族聚酰亚胺聚合物包括多个式(I)的重复单元，其中X<sub>1</sub>和Ar在文中定义。<img file="DEST_PATH_IMAGE001.GIF" wi="304" he="158" /> | ||
| 申请公布号 | CN103619455A | 申请公布日期 | 2014.03.05 |
| 申请号 | CN201180071651.4 | 申请日期 | 2011.06.17 |
| 申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | 郭蔚芬;S.叶慈;黄忠喜;韩英;鲁孟石 |
| 分类号 | B01D71/64(2006.01)I;C08G73/10(2006.01)I | 主分类号 | B01D71/64(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 赵苏林;梁谋 |
| 主权项 | 1.气体分离膜，包括芳族聚酰亚胺聚合物，该芳族聚酰亚胺聚合物包含多个式(I)的重复单元<img file="DEST_PATH_IMAGE001.GIF" wi="304" he="158" />其中X<sub>1</sub>选自<img file="342037DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="480" he="194" />及其混合物；和Ar选自<img file="DEST_PATH_IMAGE003.GIF" wi="528" he="141" />及其混合物，其中X<sub>1</sub>和Ar的苯基独立地任选被一个或多个独立地选自C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基、C-C烷氧基、卤素、硝基和-NR<sup>1</sup>R<sup>2</sup>的取代基取代，其中R<sup>a</sup>、R<sup>b</sup>、R<sup>c</sup>和R<sup>d</sup>各自独立地为C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基，和R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>为H或C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基，条件是R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>不都为H。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||