| 发明名称 | 辐射源、光刻设备以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光谱纯度滤光片，配置成允许极紫外(EUV)辐射透射通过其中并且折射或反射非极紫外伴随辐射。光谱纯度滤光片可以是源模块和/或光刻设备的一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN102150084B | 申请公布日期 | 2014.03.05 |
| 申请号 | CN200980131716.2 | 申请日期 | 2009.07.09 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·J·J·杰克;W·A·索尔;M·M·J·W·范赫彭;V·Y·班尼恩;A·M·雅库尼恩 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光谱纯度滤光片，配置成允许极紫外辐射透射通过其中并且折射非极紫外伴随辐射以使极紫外辐射与非极紫外伴随辐射分离，其中，在所述光谱纯度滤光片的材料中限定至少一个孔，所述至少一个孔具有大于极紫外辐射的波长且小于非极紫外伴随辐射的波长的横跨尺寸，且其中，所述材料透射非极紫外伴随辐射。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||