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发明名称 Process for the selective etching of silicon nitride coatings
摘要
申请公布号 GB1181380(A) 申请公布日期 1970.02.18
申请号 GB19670049471 申请日期 1967.10.31
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人
分类号 H01L21/00;H01L21/033;H01L21/311 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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