一种MWT电池的制作方法

摘要

本发明公开了一种MWT电池的制作方法，包括如下步骤：制绒、扩散、镀减反膜、背钝化、激光刻蚀、清洗、氧化、填充隔离槽、印刷、高温烧结。其中激光刻蚀步骤：采用激光在硅片上穿通孔，在钝化膜上刻电极隔离槽、铝浆和硅片的接触槽，其中隔离槽宽5-10μm，深20-80μm；接触槽宽20-100μm；所述通孔的直径为100-300μm；隔离槽把通孔包围，隔离槽边缘与背面正电极的边缘距离大于100μm。氧化步骤：通过CVD在通孔的孔壁，以及隔离槽的底部和侧壁分别氧化一层二氧化硅层，所述二氧化硅层厚度为5-20nm；本发明更进一步的提高了MWT电池的效率。

主权项

一种MWT电池的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）制绒：通过酸制绒，去除硅片表面的损伤层，控制其形貌，降低反射率；（2）扩散：扩散三氯氧磷形成PN结，方阻110ohm/sq；（3）镀减反膜：在硅片正面镀一层氮化硅减反膜，其厚度为70‑90nm；（4）背钝化：电池背面采用双层钝化膜钝化，所述第一层钝化膜带负电性，第二层钝化膜带正电性，所述第一层钝化膜的厚度为5‑30nm，第二层钝化膜的厚度为50‑200nm；（5）激光刻蚀：采用激光在硅片上穿通孔，在钝化膜上刻电极隔离槽、铝浆和硅片的接触槽, 所述隔离槽宽5‑10μm，深20‑80μm；所述接触槽宽20‑100μm；所述通孔的直径为100‑300μm；所述隔离槽把通孔包围，隔离槽边缘与背面正电极的边缘距离大于100μm；（6）清洗：激光刻蚀步骤后，在80℃，10%‑20%浓度的氢氧化钠溶液浸泡5‑10分钟去除激光过程中的损伤层；（7）氧化：通过CVD在通孔的孔壁，以及隔离槽的底部和侧壁分别氧化一层二氧化硅层，所述二氧化硅层厚度为5‑20nm；（8）填充隔离槽：在隔离槽中填充绝缘材料，并烘干；（9）印刷：进行背面正电极的堵孔浆料印刷、背场的铝浆印刷和正面电极印刷，堵孔浆料印刷和背场铝浆印刷时不能接触隔离槽，且背场铝浆印刷与隔离槽的距离大于100μm；正面电极印刷时和通孔浆料充分接触，以便把收集到的电流送到背面；（10）高温烧结：在200℃下烘干后，通过900℃的高温过程形成电极和硅片的良好欧姆接触。