发明名称 |
一种磁控溅射设备 |
摘要 |
本实用新型提供一种磁控溅射设备,包括固定板、背板及靶材,所述背板及靶材通过竖直板固定在所述固定板上,所述背板上焊接有所述靶材,所述靶材四周边缘设有挡边条,所述靶材下方被击穿部位设有凸起部,所述凸起部呈圆形,所述背板的上表面设有凹槽,所述凹槽与所述凸起部形状相匹配,所述凸起部的数量与所述凹槽的数量相同,均为四个,四个所述凸起部分别设置于所述靶材的四个角上。本实用新型的有益效果是可以有效提高靶材利用率,延长靶材寿命。 |
申请公布号 |
CN203462119U |
申请公布日期 |
2014.03.05 |
申请号 |
CN201320458139.1 |
申请日期 |
2013.07.29 |
申请人 |
天津市长久科技发展有限公司 |
发明人 |
房明;崔培育 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种磁控溅射设备,包括固定板、背板及靶材,其特征在于:所述背板及靶材通过竖直板固定在所述固定板上,所述背板上焊接有所述靶材,所述靶材四周边缘设有挡边条,所述靶材下方被击穿部位设有凸起部,所述凸起部呈圆形,所述背板的上表面设有凹槽,所述凹槽与所述凸起部形状相匹配,所述凸起部的数量与所述凹槽的数量相同,均为四个,四个所述凸起部分别设置于所述靶材的四个角上。 |
地址 |
300384 天津市西青区复康路208号(红宝石快捷酒店321A) |