发明名称 流化床反应器
摘要 公开了一种用于产生高纯度涂硅颗粒的流化床反应器。容器具有:外壁、在该外壁内侧的绝热层、至少一个位于该绝热层内侧的加热器、在该加热器内侧的可拆卸同心衬里、进口喷嘴、多个流态化喷嘴、至少一个冷却气体喷嘴、以及至少一个产品出口。该系统可以包括在所述衬里内侧的可拆卸同心套筒。在特定系统中,所述进口喷嘴被构造成用以在反应器腔室的产生一次气体竖直柱以最小化反应器表面上的硅沉积。
申请公布号 CN102713001B 申请公布日期 2014.03.05
申请号 CN201080052371.4 申请日期 2010.11.17
申请人 瑞科硅公司 发明人 E·韦恩·奥斯本;迈克尔·V·斯潘格勒;莱维·C·艾伦;罗伯特·J·格尔特森;保尔·E·埃格;沃尔特·J·施图平;杰拉尔德·蔡因格尔
分类号 C23C16/442(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C16/442(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 郇春艳;谢丽娜
主权项 一种受热硅沉积反应器系统,其包括:多个晶种颗粒;具有外壁的容器;绝热层,所述绝热层面对所述外壁的内表面;至少一个加热器,所述加热器位于所述绝热层的内侧;可拆卸同心衬里,所述衬里位于所述至少一个加热器的内侧,所述衬里具有内表面,所述内表面限定了容纳所述晶种颗粒的腔室;中央进口喷嘴,所述中央进口喷嘴具有上开口,定位所述上开口用以将包括含硅气体的一次气体向上注入到所述腔室中,其中所述中央进口喷嘴包括内壁和环绕所述内壁同心地定位的外壁,用以引导所述一次气体流穿过由所述内壁所限定的中央通道,以及引导所述二次气体流穿过所述内壁和所述外壁之间的环形通道;多个流态化喷嘴,其中每个流态化喷嘴具有通向所述腔室的出口;至少一个冷却气体喷嘴,所述冷却气体喷嘴通向在所述多个流态化喷嘴下方的所述腔室;以及至少一个出口,所述出口用于将涂硅产品颗粒从所述容器取出。
地址 美国华盛顿州