用以使用原子层沉积技术沉积钨层之方法,申请号TW095101760-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	用以使用原子层沉积技术沉积钨层之方法
摘要
申请公布号	TWI428469	申请公布日期	2014.03.01
申请号	TW095101760	申请日期	2006.01.17
申请人	应用材料股份有限公司美国	发明人	赖耿光;拉贾勾帕兰拉菲;坎多尔沃夫亚弥特;摩西马德夫;干德可塔史林尼维斯;卡思若乔瑟夫;杰拉多斯巴艾夫杰尼诺斯Ｖ;坎博费勒查利;菅平;方宏斌;洪昭明;奚明;杨晓晅（麦克Ｘ）;仲华;兵杰松
分类号	C23C26/00	主分类号	C23C26/00
代理机构		代理人	蔡坤财台北市中山区松江路148号11楼;李世章台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址	美国

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