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经营范围
发明名称
薄膜形成装置，薄膜形成方法及遮蔽组件
摘要
申请公布号
TWI428960
申请公布日期
2014.03.01
申请号
TW099145222
申请日期
2010.12.22
申请人
佳能安内华股份有限公司 日本
发明人
江上明宏;中泽俊和;铃木胜大;长谷川晋也
分类号
H01L21/203
主分类号
H01L21/203
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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