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经营范围
发明名称
高腔室温度制程及用于光阻剥除及后金属蚀刻钝化之腔室设计
摘要
申请公布号
TWI428713
申请公布日期
2014.03.01
申请号
TW096135604
申请日期
2007.09.21
申请人
蓝姆研究公司 美国
发明人
颖阳 艾伯特 王;罗伯 薛比
分类号
G03F7/36
主分类号
G03F7/36
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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