发明名称 一种集成二极管的集电极短路IGBT结构
摘要 本发明公开了一种集成二极管的集电极短路IGBT结构,包括元胞区(110)和环绕于所述元胞区(110)的终端区(111),属于功率半导体器件技术领域。其中元胞区(110)包括绝缘层(10)、多晶硅栅极(30)、发射极金属(50)、P-body区(20)、发射极N+区(40)、N-漂移区(80)、集电极P+区(90)和集电极区(100);终端区(111)包括主结(21)、场限环(61)、沟道截止环(71)、N-漂移区(81)、N+集电极短路区(91)、发射极金属(51)、集电极金属(101)和绝缘层(11)。主结(21)、N-漂移区(81)以及集电极N+区(91)形成了反并联PiN二极管,不仅减小了器件的整体面积和封装成本,而且提高了器件的开关速度并克服了传统集电极短路的逆阻效应。
申请公布号 CN103606557A 申请公布日期 2014.02.26
申请号 CN201310515887.3 申请日期 2013.10.25
申请人 佛山芯光半导体有限公司 发明人 何志;谢刚
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种集成二极管的集电极短路IGBT结构,包括元胞区(110)和环绕于所述元胞区(110)的终端区(111),属于功率半导体器件技术领域。其中元胞区(110)包括绝缘层(10)、多晶硅栅极(30)、发射极金属(50)、P‑body区(20)、发射极N+区(40)、N‑漂移区(80)、集电极P+区(90)和集电极区(100);终端区(111)包括主结(21)、场限环(61)、沟道截止环(71)、N‑漂移区(81)、N+集电极短路区(91)、发射极金属(51)、集电极金属(101)和绝缘层(11),其特征在于,终端部分的集电极区域全部是N+区(91),其中主结(21)、N‑漂移区(81)以及集电极N+区(91)形成了反并联PiN二极管。
地址 528226 广东省佛山市南海区广东新光源产业基地核心区A区7座302