一种化学机械抛光液

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有溶胶型二氧化硅、速率增助剂、表面活性剂和水。本发明克服现有的用于抛光氧化物介电质的化学机械抛光液中抛光液磨料含量高、抛光表面缺陷高的缺陷，提供了一种抛光液磨料含量低、二氧化硅去除速率高、氮化硅抛光速率低的化学机械抛光液。

主权项

一种化学机械抛光液，其含有溶胶型二氧化硅、速率增助剂、表面活性剂和水，其中，所述的溶胶型二氧化硅中二氧化硅胶体颗粒的浓度为20～50%；百分比为质量百分比，其中所述的速率增助剂为酒石酸钾、乙二胺四乙酸、氨三乙酸、亚氨基二乙酸和2‑羟基膦酰基乙酸中的一种或多种。