发明名称 Implantes para la elevación de cejas
摘要 Un implante (200) para reposicionar la ceja de un paciente, que comprende: una única porción de pie (202) para posicionarla a lo largo de al menos una porción de una longitud de la cejade un paciente, la porción de pie (202) extendiéndose a lo largo de un primer eje longitudinal (L1) y teniendouna longitud; una porción de tira vertical (204) que se extiende hacia afuera desde la porción de pie (202) para extendersehacia arriba a través de al menos una porción de la frente del paciente, la porción de tira vertical (204)extendiéndose a lo largo de un segundo eje longitudinal (L2) y teniendo una longitud, y una anchura que esmás pequeña que la longitud del pie (202); y en donde el implante (200) es sustancialmente plano teniendo la primera y la segunda superficies opuestas,caracterizado porque: el segundo eje longitudinal (L2) está desplazado desde un centro de la longitud de laporción de pie (202), y el primer y el segundo ejes longitudinales (L1, L2) forman un ángulo obtuso entre ellosen un punto de intersección.
申请公布号 ES2444617(T3) 申请公布日期 2014.02.26
申请号 ES20100796532T 申请日期 2010.12.09
申请人 ETHICON, INC. 发明人 KNIZE, DAVID;KOYFMAN, ILYA S.;YUAN, JENNY J.;HILL, DONALD G.;HOFFMAN, MICHAEL
分类号 A61F2/00 主分类号 A61F2/00
代理机构 代理人
主权项
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