原位中子衍射用对顶砧高压装置

摘要

本发明公开了一种原位中子衍射用对顶砧高压装置，主要包括框架、位于框架内由压头和腔体座构成的内压腔、位于内压腔内分别设置在压头和腔体座上砧面相对的压砧、位于两压砧之间的封垫和加载系统，两压砧和位于它们之间的封垫构成样品高压密封腔，内压腔设计有中子束入射光通道和衍射光窗口，所述加载系统设计有两级加载子系统，一级加载子系统为成对对称设置的螺纹副机械加载系统，二级加载子系统由设置在框架上的油缸和作用于内压腔的活塞构成，高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置下方。本发明具有压砧兼容性好，能在实验台上对实验样品加载施压，加载压力能长时间保持，实验人员可远离实验台进行实验操作，安全性高。

主权项

一种原位中子衍射用对顶砧高压装置，主要包括框架（2）、位于框架内由压头（8）和腔体座（9）构成的内压腔（3）、位于内压腔内分别设置在压头和腔体座上砧面相对的两压砧（10）、位于两压砧之间的封垫（21）和加载系统，两压砧和位于它们之间的封垫构成样品高压密封腔，内压腔设计有中子束入射光通道和衍射光出射窗口，其特征在于所述加载系统设计有两级加载子系统，其中一级加载子系统为成对对称设置的螺纹副机械加载系统，由与腔体座或压头上的螺纹孔配合构成加载螺纹副的加载螺栓（13）和弹性垫构成，二级加载子系统为液压加载系统，由设置在框架上的活塞缸（6）和作用于腔体座或压头的活塞（5）构成，对顶砧高压装置通过其框架悬挂在与中子堆源平台相配套的悬挂装置（1）下方，悬挂装置设计有挂位调整机构。