用于在涡流层设备中连续地处理固体的装置

摘要

本发明涉及一种用于在具有圆形处理腔的涡流层设备中连续处理固体的装置，所述涡流层设备具有固体输入口、固体输出口以及与处理腔的内轮廓相匹配的入流底部，在该入流底部下方设置用于产生和保持涡流层的介质入口。本发明在入流底部（1）上设置有分隔壁（2），该分隔壁由处理腔（3、9）内壁（10）径向向内伸入处理腔。固体输入口（5）紧密地靠近分隔壁（2），固体输出口（6）紧密地靠近分隔壁。优选地，在入流底部（1）上沿处理腔（9）的轴线设置排压体（8），所述排压体与分隔壁连接。优点在于，在横截面为圆形的处理腔中在具有扁平的涡流层的同时通过较长的路径实现沿水平方向均匀定向的固体流。利用该装置实现较窄停留时间谱。

主权项

一种用于在具有圆形处理腔的涡流层设备中连续地处理固体的装置，所述涡流层设备具有固体输入口（5）、固体输出口（6）以及与所述处理腔（3、9）的内轮廓相匹配的入流底部（1），在所述入流底部（1）下方设置用于产生和保持涡流层的介质入口，其特征在于，在所述入流底部（1）上设置有分隔壁（2），该分隔壁（2）由所述处理腔（3、9）的内壁（10）径向向内伸入所述处理腔（3、9），一方面所述固体输入口（5）紧密地靠近所述分隔壁（2），另一方面所述固体输出口（6）紧密地靠近所述分隔壁（2）。