一种负载的微波处理设备

摘要

本发明涉及一种负载微波处理设备，包括至少一个应用装置（30）;至少一个固态类型的在微波范围内的发生器（4），该发生器通过用于引导电磁波的装置（5）连接到至少一个应用装置（30）;至少一个频率调整系统（40），该频率调整系统设计用于调整所述对应的发生器（4）产生的电磁波的频率;所述或每个应用装置（30）的测量系统（31），该测量系统设计用于测量由该应用装置（30）发射的反射功率PR（i）;自动控制装置（6），该自动控制装置连接至所述或每个频率调整系统（40）和每个测量系统（31），从而根据该发射的功率控制对电磁波频率f（i）的调整,进而调整反射功率PR（i）和/或调整发射功率PT（i）。

主权项

一种负载微波处理设备（1），包括：‑至少一个应用在微波范围内的电磁波的应用装置（30）;‑至少一个固态类型的在微波范围内的电磁波发生器（4），通过用于引导电磁波的装置（5）连接到至少一个应用装置（30）;其特征在于，该设备进一步包括：‑所述或每个发生器（4）的频率调整系统（40），该频率调整系统设计用于调整所述对应的发生器（4）产生的电磁波的频率f（i）;‑所述或每个应用装置（30）的测量系统（31），该测量系统设计用于测量所述对应的应用装置（30）的反射功率PR（i）;以及‑自动控制装置（6），该自动控制装置连接至所述或每个频率调整系统（40），并且设计用于控制通过所述或每个频率调整系统（40）对电磁波频率f（i）的调整,另一方面，该自动控制装置连接至所述或每个测量系统（31），用来：e1)作为输入并且实时接收来自所述或每个测量系统（31）的反射功率测量值PR（i）；并且e2)控制所述或每个频率调整系统（40）以改变所述或每个发生器（4）产生的电磁波频率f（i），直至符合以下至少一个条件：a)由所述或每个测量系统（31）测得的所述反射功率PR（i）基本上达到第一参考值VR(i);或者b)所述或每个应用装置（30）的发射功率PT(i)基本上达到第二参考值VT(i)，所述发射功率PT(i)对应于发射至所述对应的应用装置(30)的入射功率PIN(i)与在同一应用装置(30)测得的所述反射功率PR（i）的差值，或下面的关系式：PT(i)=PIN(i)‑PR（i）。