| 发明名称 | 光敏组合物 | ||
| 摘要 | 本发明为光敏组合物。提供了可用于光刻工艺中的辐射敏感聚合物和组合物。所述聚合物和组合物提高了对激活辐射的敏感度。 | ||
| 申请公布号 | CN102153695B | 申请公布日期 | 2014.02.26 |
| 申请号 | CN201010625231.3 | 申请日期 | 2010.12.30 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | J·W·撒克里;E·阿恰达 |
| 分类号 | C08F220/32(2006.01)I;C08F220/18(2006.01)I;C08F220/30(2006.01)I;C08F220/38(2006.01)I;C08F220/34(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 郭辉 |
| 主权项 | 1.一种聚合物，其包括聚合物主链和共价连接到聚合物主链上的单光致酸生成剂，其中单光致酸生成剂衍生自分别以式(1a)或式(1b)所示的具有可聚合磺酸盐阴离子的一个或多个锍盐或碘鎓盐：<img file="FDA00003497186900011.GIF" wi="1316" he="542" />其中：Y是氢、烷基、氟代烷基或氟；R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3、</sub>R<sub>4</sub>和R<sub>5</sub>独立地选自取代或非取代芳基；和Z是取代的芳香基，其中Z通过包括末端CF<sub>2</sub>、C(F)(CF<sub>3</sub>)或C(CF<sub>3</sub>)<sub>2</sub>的直链或支链全氟代烷基链共价连接磺酸盐阴离子。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||