发明名称 |
一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法,包括步骤:1)在芯片上设计能过量测的OVL标记;2)光刻成型后,利用OVL机台实际量测OVL标记,建立OVL量测程式,通过OVL大小反应关键尺寸大小;还包括步骤:3)在经过上述方法得到的关键尺寸,通过CD-SEM的校准,从而得出两个系统之间的偏差。本发明利用相对廉价的OVL机台来量测关键尺寸,从而使工厂的产能调配,经济生产更加有弹力。 |
申请公布号 |
CN102446782B |
申请公布日期 |
2014.02.26 |
申请号 |
CN201010505481.3 |
申请日期 |
2010.10.13 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
丁刘胜 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
高月红 |
主权项 |
一种利用OVL机台量测关键尺寸的方法,包括步骤:(1)在芯片上设计能过量测的OVL标记;(2)光刻成型后,利用OVL机台实际量测OVL标记,建立OVL量测程式,通过OVL大小反应关键尺寸大小;(3)在经过上述方法得到的关键尺寸,通过CD‑SEM的校准,从而得出两个系统之间的偏差;所述步骤(1)中的OVL标记的设计方法如下:以芯片的中心点为中心,设计方块PAD,该方块PAD边长为m;以方块PAD的最左边距离m处,设计条形图形C1,C1的垂直方向长度为n,水平方向长度为a;以C1的最左边距离b处,设计条形图形C2,C2的垂直方向长度为p,水平方向长度为a;以方块PAD的最右边距离m处,设计条形图形C3,C3的垂直方向长度为p,水平方向长度为2a+b,其中,以C3的中心点为中心,挖空设计条形图形C4,C4的垂直方向长度为n,水平方向长度为b;方块PAD、条形图形C1、C2、C3、C4的中心点都在同一水平线上,并且利用条形图形C1、C2以方块PAD的45度中线对称,设计为C1′和C2′,同时,利用条形图形C3、C4以方块PAD的45度中线对称,设计为C3′和C4′。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |