用于EUV微光刻的照明光学部件

摘要

本发明涉及一种EUV微光刻的照明光学部件(47)，用来采用EUV所使用辐射束(3)照明物场(19)。预设装置(6、10)用来预设照明参数。一种照明校正装置用来校正所述物场照明的强度分布和/或角度分布。所述装置具有在所述物场(19)之前的光学元件(13)，所述光学元件被部分地由所使用的辐射束(3)照射，且可通过受控的驱动器位移。检测器(50、53)用来获取一种照明参数。分析装置(31)用来分析检测器数据且将其转化为控制信号。至少一个致动器(61、62)被用来位移光学元件(13)。在照明期间，该调整元件通过检测信号控制，从而在投射照明的过程中物场(19)的边缘到被照明的物(18)的最大位移被确保小于8μm。由此得到一种照明光学部件，通过该照明光学部件，甚至对于非常高精度的要求，也能确保预设的照明参数。

主权项

一种用于EUV微光刻的照明光学部件（26；38；47），用于借助EUV所使用辐射束（3），在物场（19）的位置照明物（18），‑包括照明强度预设装置（6）和照明角度预设装置（10），以物场内预设的强度分布和预设的照明角度分布照明所述物场（19），且‑包括用于校正至少一个下列照明参数的照明校正装置‑‑物场照明的强度分布，‑‑物场照明的角度分布，其中所述照明校正装置包括：‑光阑布置（24；73），其被布置于物场平面（17）或是与其共轭的平面的区域内，且具有多个指状光阑（27；74），所述指状光阑可被沿位移方向（y）位移，所述物（18）在投射曝光期间沿所述位移方向位移，‑至少一个检测器（28；46；50，53；75，76，77，78），测量EUV所使用辐射束（3）在所述物场（19）的区域内的位置，‑至少一个分析装置（31），其信号连接到所述检测器（28；46；50，53；75，76，77，78），分析所述检测器的数据，并将所述检测器的数据转换为控制信号，和‑至少一个致动器（32；61，62，62a），其信号连接到所述分析装置（31），以变化所述EUV所使用辐射束（3）和所述光阑布置（24，73）之间的相对位置，所述照明校正装置被设计成在照明期间，确保所述所使用辐射束（3）的边缘朝向所述指状光阑（27；74）、垂直于所述所使用辐射束（3）的光束方向的最大位移为8μm,其中所述照明校正装置被设计成所述致动器（32；61，62，62a）实现所述光阑布置（24，73）的位移并由此导致所述EUV所使用辐射束（3）和所述光阑布置（24，73）之间的相对位置的变化。