发明名称 |
薄膜晶体管和显示装置 |
摘要 |
本实用新型实施例公开了一种薄膜晶体管和显示装置,涉及显示器领域,可以提高低温多晶硅薄膜的晶粒尺寸及均匀性,并能充分利用入射激光的能量,有利于降低低温多晶硅薄膜的生产成本,提高了低温多晶硅薄膜晶体管的性能。该薄膜晶体管,包括设置于衬底基板上的有源层和位于所述有源层上的绝缘薄膜,所述有源层的材质为低温多晶硅薄膜;所述绝缘薄膜为光学增透薄膜,所述光学增透薄膜表面具有阵列排布的聚光结构,并将该薄膜晶体管应用于显示装置。 |
申请公布号 |
CN203456472U |
申请公布日期 |
2014.02.26 |
申请号 |
CN201320613194.3 |
申请日期 |
2013.09.29 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
王磊;田雪雁;任章淳 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,包括设置于衬底基板上的有源层和位于所述有源层上的绝缘薄膜,其特征在于,所述有源层的材质为低温多晶硅薄膜;所述绝缘薄膜为光学增透薄膜,所述光学增透薄膜表面具有阵列排布的聚光结构。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |