| 发明名称 | 一种用于制备α_SiH膜的设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室，在所述真空室内设有基片安装座，基片设置在所述基片安装座上，在所述真空室上连接有Si2H6进气管，在所述的真空室上设有石英管，在所述的石英管上设有微波源，在所述石英管一端上设有H2进气管，在所述的真空室上设有真空泵连接管。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本低，用于制备α_SiH膜的设备。 | ||
| 申请公布号 | CN103602957A | 申请公布日期 | 2014.02.26 |
| 申请号 | CN201310552746.9 | 申请日期 | 2013.11.07 |
| 申请人 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 发明人 | 陈路玉 |
| 分类号 | C23C16/30(2006.01)I;C23C16/48(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人 | 吴剑锋 |
| 主权项 | 一种用于制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室（1），在所述真空室（1）内设有基片安装座（2），基片（3）设置在所述基片安装座（2）上，在所述真空室（1）上连接有Si2H6进气管（4），在所述的真空室（1）上设有石英管（5），在所述的石英管（5）上设有微波源（6），在所述石英管（5）一端上设有H2进气管（7），在所述的真空室（1）上设有真空泵连接管（8），所述基片安装座（2）设置在与所述石英管（5）正对的位置上。 | ||
| 地址 | 528400 广东省中山市火炬开发区创业大厦229号 | ||