发明名称 六硼化镧-二硅化钼-碳化硅抗热震涂层的制备方法
摘要 本发明涉及一种六硼化镧-二硅化钼-碳化硅抗热震涂层的制备方法,将2D C/C复合材料烘干备用;利用液相渗硅的方法制备SiC内涂层;将MoSi2、Si、C及LaB6按一定比例球磨混合,利用包埋技术制备LaB6-MoSi2外涂层。本发明中LaB6能够细化MoSi2晶粒,促进MoSi2陶瓷涂层的烧结,提高涂层组分的渗透能力,使LaB6和MoSi2均匀有效地渗入多孔的SiC内涂层,形成致密连续的涂层组织。本发明的涂层制备方法简便,且与未改性的MoSi2-SiC涂层相比,具有更加优异的抗热震性能。
申请公布号 CN102765969B 申请公布日期 2014.02.26
申请号 CN201210209063.9 申请日期 2012.06.25
申请人 西北工业大学 发明人 李贺军;李婷;史小红
分类号 C04B41/89(2006.01)I 主分类号 C04B41/89(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 王鲜凯
主权项 一种六硼化镧‑二硅化钼‑碳化硅抗热震涂层的制备方法,其特征在于步骤如下:步骤1:将C/C复合材料打磨抛光后用无水乙醇超声波清洗20~30min,放入烘箱中烘干备用;烘干温度为70~90℃;超声波功率为80~150W;步骤2制备SiC内涂层:步骤a1:将质量分数为70~80%的Si粉、10~20%C粉及10~15%的Al2O3粉,加入球磨罐中球磨1~3h制成包埋粉料;步骤b1:将所制包埋粉料的一半均匀铺满石墨坩埚底部,再放入C/C复合材料,随后用另一半包埋料覆盖C/C复合材料上,然后加上石墨坩埚盖;步骤c1:将石墨坩埚放入真空炉中,对真空炉进行真空处理后通Ar至常压,以5~12℃/min的升温速度将炉温升至2000~2300℃,保温1~3h;随后以5~11℃/min的降温速度将炉温降至1000~1200℃,关闭电源自然降温至室温,得到SiC内涂层;整个过程中通氩气保护;步骤3制备LaB6‑MoSi2外涂层:步骤a2:将质量分数20~30wt.%MoSi2粉、50~65wt.%Si粉、5~20wt.%C粉1~10wt.%LaB6粉在球磨机中球磨混合,得到包埋粉料;步骤b2:将步骤a2制备的包埋粉料和步骤c1得到的SiC‑C/C复合材料一起装进石墨坩埚,再将石墨坩埚放入真空炉内,对真空炉进行真空处理后通Ar至常压,以5~12℃/min的升温速度将炉温升至2000~2200℃,保温1~3h,随后以5~11℃/min的降温速度将炉温降至1000~1200℃,关闭电源自然降温至室温,在SiC‑C/C复合材料上制备出LaB6‑MoSi2外涂层;整个过程中通氩气保护。
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