| 发明名称 | 测量系统 | ||
| 摘要 | 一种用于投射曝光设备（1）的物镜（27），包含布置在物镜框架（28）上的度量台（30）。 | ||
| 申请公布号 | CN103608729A | 申请公布日期 | 2014.02.26 |
| 申请号 | CN201280028001.6 | 申请日期 | 2012.06.06 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | M.戈珀特;H.海德纳;R.弗赖曼;C.斯特雷贝尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种用于表征投射曝光设备（1）的至少一个部件的测量系统（37），包含：a.至少一个测量装置（16），用于测量光学参数，以及b.定位装置（30），用于定位所述至少一个测量装置（16），c.其中，所述定位装置（30）以可移动的方式连接至所述投射曝光设备（1）的物镜（27）。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||