| 发明名称 | 用于吸附待处理物件的真空吸盘中的缓冲片 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于吸附待处理物件的真空吸盘中的缓冲片。本发明的缓冲片结合至吸附和固定待处理物件的真空吸盘的上面，并且包括无纺片以及含有碳纳米管的ESD涂层，该ESD涂层在无纺片上以使待处理物件被安装。根据本发明，由于施用了包含具有导电性的碳纳米管的ESD涂层，因此抗静电效果优异。 | ||
| 申请公布号 | CN103608912A | 申请公布日期 | 2014.02.26 |
| 申请号 | CN201280028646.X | 申请日期 | 2012.06.11 |
| 申请人 | 拓普纳诺斯株式会社 | 发明人 | 李在德;崔日焕;金承烈 |
| 分类号 | H01L21/687(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;B23Q3/08(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/687(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;张英 |
| 主权项 | 一种用于支持工件的真空吸盘的缓冲片，包括：无纺布片；以及在所述无纺布片上的包括碳纳米管的ESD涂层。 | ||
| 地址 | 韩国庆尚北道 | ||