发明名称 氮化物单晶之制造方法及用于其之高压釜
摘要 本发明提供一种可使较快之结晶成长速度与较高之结晶品质并存的氮化物单晶之新颖制造方法、以及可用于该方法之新颖高压釜。本发明提供一种氮化物单晶之制造方法及可用于该方法之高压釜,该氮化物单晶之制造方法系利用氨热法制造含Ga之氮化物单晶之方法,其包括如下步骤:向高压釜内至少导入原料、酸性矿化剂及氨后,于单晶成长部位之温度(T1)为600℃~850℃、该单晶成长部位之温度(T1)与原料供给部位之温度(T2)之间存在T1>T2之关系、且该高压釜内之压力为40 MPa~250 MPa之条件下,使含Ga之氮化物单晶成长。
申请公布号 TWI427200 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW100122330 申请日期 2011.06.24
申请人 旭化成股份有限公司 日本;国立大学法人东北大学 日本 发明人 青木谦介;吉田一男;中村克仁;福田承生
分类号 C30B29/40;C30B7/10 主分类号 C30B29/40
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本