发明名称 |
焊料凸块形成方法 |
摘要 |
一种对于复数个焊垫上所安装之一导电球实施一回流处理,藉以形成一焊料凸块之焊料凸块形成方法,包括:一金属膜形成步骤,形成一能与一胶黏化合物(tackifying compound)化学反应之金属膜于该等焊垫上;一有机黏着层形成步骤,使一含有该胶黏化合物之溶液与该金属膜化学反应,藉以形成一有机黏着层于该金属膜上;以及一导电球安装步骤,供应该导电球于上面形成有该有机黏着层之焊垫上,藉以经由该金属膜安装该导电球于该等焊垫上。 |
申请公布号 |
TWI427720 |
申请公布日期 |
2014.02.21 |
申请号 |
TW097127081 |
申请日期 |
2008.07.17 |
申请人 |
新光电气工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
今藤桂;中泽昌夫;真田昌树;织田祥子;小平正司;永田欣司;山崎胜;榎建次郎 |
分类号 |
H01L21/60;H01L23/12;H05K3/34 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |