发明名称 |
发光装置 |
摘要 |
本发明揭示制作发光二极体之系统与方法,在较佳实施例中,形成一布拉格反射层于一基材上,并于布拉格反射层上形成一光子晶体层以准直射入布拉格反射层之光线,藉此增加布拉格反射层之效率。第一接触层、主动层、及第二接触层可直接形成于光子晶体层上,或贴附至光子晶体层上。 |
申请公布号 |
TWI427825 |
申请公布日期 |
2014.02.21 |
申请号 |
TW098107981 |
申请日期 |
2009.03.12 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
发明人 |
陈鼎元;余振华;邱文智 |
分类号 |
H01L33/00 |
主分类号 |
H01L33/00 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |