发明名称 遮罩构件之洁净装置及洁净方法以及有机电激发光显示器
摘要 [课题]本发明系提供一种在洁净进行了真空蒸镀后的遮罩构件之际,将对于洁净时之遮罩构件及洁净装置的负荷抑制在最小限度。;[解决手段]利用乾洗净平台(11)将遮罩构件(1)保持为铅直状态,从雷射振荡器(22)介由扫描光学系(23)将雷射光脉冲局部性照射在遮罩板(2)表面,利用遮罩板(2)与蒸镀物质之间的热膨胀率差破碎遮罩板(2)表面的蒸镀物质,利用根据长条喷嘴(24)的负压吸力作用除去该碎片及薄片,其次在湿洗净平台(14)中,利用溶剂洗净部(12)进行超音波洗净,利用喷洒洗净部(13)使用溶剂洁净包含遮罩框架(3)之遮罩构件(1)整体。
申请公布号 TWI426962 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW099106144 申请日期 2010.03.03
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 日本 发明人 弓场贤治;韮泽信广;片桐贤司;井崎良
分类号 B08B3/00;B08B3/04;H01L27/32 主分类号 B08B3/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本