| 摘要 |
Es werden ein Verfahren zur Herstellung eines Kontakt-Pad-Seitenwand-Abstandshalters (217) und Pad-Seitenwand-Abstandshalter (217) offenbart. Eine Ausführungsform beinhaltet das Bilden einer Mehrzahl von Kontakt-Pads (215) auf einem Substrat (220), wobei jedes Kontakt-Pad (215) Seitenwände aufweist, das Bilden eines ersten Photoresists über dem Substrat (220) und das Entfernen des ersten Photoresists von dem Substrat (220), wodurch Seitenwand-Abstandshalter (217) entlang der Seitenwände der Mehrzahl der Kontakt-Pads (215) gebildet werden. |
