发明名称 Verfahren zur Herstellung eines Einkristallingots und hierdurch hergestellter Einkristallingot und Wafer
摘要 Ein Verfahren zur Herstellung eines Einkristallingots und ein Einkristallingot und ein Wafer, die hierdurch hergestellt werden, werden bereitgestellt. Das Verfahren zur Herstellung eines Einkristallingots gemäß einer Ausführungsform umfasst das Bilden einer Siliziumschmelze in einem Tiegel innerhalb einer Kammer, das Bereitstellen eines Impfkristalls in der Siliziumschmelze und das Züchten eines Einkristallingots aus der Siliziumschmelze, und der Druck der Kammer kann in einem Bereich von 90 Torr bis 500 Torr gesteuert werden.
申请公布号 DE112012001486(T5) 申请公布日期 2014.02.20
申请号 DE20121101486T 申请日期 2012.03.20
申请人 LG SILTRON INC. 发明人 SIM, BOK-CHEOL;KIM, SANG HEE;HWANG, JUNG-HA;CHOI, YOUNG-KYU
分类号 C30B15/20;C30B29/06;H01L21/02 主分类号 C30B15/20
代理机构 代理人
主权项
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