用于制造PVD涂层的方法

摘要

本发明涉及制造金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其中运行高功率脉冲磁控溅射，HIPIMS，在一个或多个靶(3)上放电，在高于200Wcm-2的峰值脉冲功率下，在氩气和反应性气体混合物(5，6)中，其中改进了沉积速率并且消除了对反应性气体分压反馈系统的需要。

主权项

用于沉积晶体金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其特征在于运行高功率脉冲磁控溅射HIPIMS，在一个或多个靶上放电，在氩气和反应性气体的混合物中，在至少320Wcm‑2的峰值脉冲功率、≤100μs的脉冲长度以及≥100Hz的重复频率下。