发明名称 分配器设备及其控制方法
摘要 提供一种分配器设备及其控制方法。该分配器设备包含:排放单元,其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴;间隙传感器,用于测量所述排放单元的喷嘴与所述衬底之间的间隙;支撑单元,其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面;滑动单元,安置于所述支撑单元与所述排放单元之间,以通过所述排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元;以及头块,其包括位移检测单元,用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。因此,当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时,连接到排放单元的滑动部件通过所述反作用而操作。排放单元通过所述滑动部件的操作而抬升,且排放单元的移动被位移检测单元检测。
申请公布号 CN102078846B 申请公布日期 2014.02.19
申请号 CN201010568348.2 申请日期 2010.11.23
申请人 AP系统股份有限公司 发明人 崔锺权;崔文基;黄世翰;丁玄晟
分类号 G02F1/133(2006.01)I 主分类号 G02F1/133(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种分配器设备,其中包括:排放单元,其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴;间隙传感器,其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙;支撑单元,其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面;滑动单元,其安置以连接所述支撑单元与所述排放单元,以通过所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用来操作而抬升所述排放单元;头块,其包含位移检测单元,用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动;以及驱动单元,其连接所述头块,以基于所述间隙传感器所测得的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙来抬升或下降所述整个头块。
地址 韩国京畿道华城市东摊面中里605