氧化物刻蚀方法及设备

摘要

本发明公开了一种氧化物刻蚀方法及设备，所述方法包括以下步骤：S1、测量刻蚀设备腔体中电子载台上掩避环的缺失厚度，判断缺失厚度是否小于系统设置阈值，若是，执行步骤S2，若否，更换新的电子载台后执行步骤S2；S2、将晶圆放置于刻蚀设备腔体中的电子载台上；S3、开启刻蚀设备，通入刻蚀气体，产生等离子轰击晶圆，完成刻蚀。本发明通过对电子载台上的缺陷厚度进行监控，当缺失厚度达到一定值时，更换新的电子载台，有效地控制了晶圆表面的缺陷数量。

主权项

一种氧化物刻蚀方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：S1、测量刻蚀设备腔体中电子载台上掩避环的缺失厚度，判断缺失厚度是否小于系统设置阈值，若是，执行步骤S2，若否，更换新的电子载台后执行步骤S2；S2、将晶圆放置于刻蚀设备腔体中的电子载台上；S3、开启刻蚀设备，通入刻蚀气体，产生等离子轰击晶圆，完成刻蚀。